碳化硅襯底退火爐（SiC） 高溫退火爐 退火爐

產品應用

高溫退火爐系統主要用于化合物半導體：SiC或GaN的2’’、4’’、6’’晶原片或其他尺寸工藝片的高溫退火、活化等工藝。碳化硅單晶生長一般是在高溫下進行的，晶體生長結束后，晶體內部存在較大的殘余應力。這些應力的存在，很容易導致晶體在加工中出現開裂現象，從而造成整根晶體的報廢。因此碳化硅晶體加工前需要進行二次退火，去除其中的部分應力，降低晶體加工過程中開裂的風險。

碳化硅晶體退火需要較高的溫度，一般在2000℃左右，甚至更高的溫度。

產品特點

1、主要部件和材料采用國內名牌或國際名牌、從硬件上保證產品的優質和優良

2、所有的上位機控制管理軟件均由我公司設計開發并由客戶多年應用證明運行可靠

3、智能溫控儀控制升溫、恒溫、降溫、實現自動控溫功能

4、控溫儀具有工藝存儲功能?？纱鎯Χ鄺l不同的工藝曲線，具有PID參數自運算及掉電保護功能，它與PLC及觸摸屏組合可實現工況的模擬和控制

5、整個工藝過程控制也可全部由可編程序控制器（PLC）完成，全部動作均采用聯鎖保護，可選擇手動或自動兩種工作方式，并配有值得信賴的報警及保護措施。