產(chǎn)品應用
高溫退火爐系統(tǒng)主要用于化合物半導體：SiC或GaN的2’’、4’’、6’’晶原片或其他尺寸工藝片的高溫退火、活化等工藝。碳化硅單晶生長一般是在高溫下進行的，晶體生長結(jié)束后，晶體內(nèi)部存在較大的殘余應力。這些應力的存在，很容易導致晶體在加工中出現(xiàn)開裂現(xiàn)象，從而造成整根晶體的報廢。因此碳化硅晶體加工前需要進行二次退火，去除其中的部分應力，降低晶體加工過程中開裂的風險。
碳化硅晶體退火需要較高的溫度，一般在2000℃左右，甚至更高的溫度。
產(chǎn)品特點
1、主要部件和材料采用國內(nèi)名牌或國際名牌、從硬件上保證產(chǎn)品的優(yōu)質(zhì)和優(yōu)良
2、所有的上位機控制管理軟件均由我公司設計開發(fā)并由客戶多年應用證明運行可靠
3、智能溫控儀控制升溫、恒溫、降溫、實現(xiàn)自動控溫功能
4、控溫儀具有工藝存儲功能?？纱鎯Χ鄺l不同的工藝曲線，具有PID參數(shù)自運算及掉電保護功能，它與PLC及觸摸屏組合可實現(xiàn)工況的模擬和控制
5、整個工藝過程控制也可全部由可編程序控制器（PLC）完成，全部動作均采用聯(lián)鎖保護，可選擇手動或自動兩種工作方式，并配有值得信賴的報警及保護措施。
